Внутренний и внешний фотоэффекты
В качестве материалов фотоэлектрических преобразователей используются полупроводники, электрические свойства которых под влиянием света изменяются. Рассмотрим важнейшие свойства и затем некоторые наиболее типичные случаи применения. Ещё в конце прошлого столетия было известно, что электропроводность определённой группы твёрдых материалов может изменяться при облучении их светом. Развитие элементов, использующих фотоэффект, тесно связано с успехами физики полупроводников.
Как схематически показано на рис. 1, при внешнем фотоэффекте электроны за счёт облучения освобождаются с внешней поверхности металлического слоя (например, калия или цезия). В вакуумном или газоразрядном фотоэлементе освобождённые электроны движутся к аноду, фотоэлементы создают фотоЭДС, пропорциональную силе света. При внутреннем фотоэффекте электроны, которые до этого были соединены с атомами кристаллической решётки полупроводника, под влиянием облучения светом освобождаются и движутся в полупроводнике как свободные носители зарядов. В однородных полупроводниках, обладающих п-проводимостью и р-проводимостью, это относится ко всему объёму. В таких полупроводниках можно получить очень сильные уменьшения электрического сопротивления при освещении.
Этот эффект имеет место во всех полупроводниковых материалах. В том числе в химических соединениях групп А2В6 и А4В6. Техническое применение получили фотосопротивления из халькогенидов CdS, CdSe, PbS
Внешний фотоэффект | Внутренний фотоэффект | ||
Фотоэффект на запирающем слое | |||
Тип элемента | Фотоэлектронный фотоэлемент. | Фотосопротивление | Фотодиод. Фототранзистор |
Действие света | Фотонапряжение | Изменение сопротивления | Фотонапряжение |
Материал | Цезий(Cs) Калий(К) | Сульфид кадмия (CdS) Селенид кадмия (CdSe) Сульфид свинца (PbS) | Германий (Ge) Кремний (Si) |
Рисунок 1 - Фотоэлектрические элементы
Если в полупроводнике области п-проводимости и р-проводимости граничат между собой (p-n переход), то в зоне перехода возникает запирающий слой. Фотодиоды и фототранзисторы, выполненные по этому принципу, создают при освещении фотоЭДС. В противоположность фотосопротивлениям фоточувствительным в них является только участок, непосредственно примыкающий к запирающему слою, поэтому можно говорить о фотоэффекте в запирающем слое.
В качестве материалов для этих элементов применяются в большинстве случаев Ge, Si.