Типовые отказы транзисторов
Прежде чем перейти к рассмотрению вопросов, связанных с отказами транзисторов, целесообразно сказать несколько слов о том, что следует понимать под отказавшими приборами. Помимо катастрофических отказов, т. е. приборов совершенно неработоспособных среди отказавших различают еще работоспособные приборы и приборы, условно потерявшие работоспособность. Первые из них — это такие приборы, которые вполне могут выполнять свое функциональное назначение, но у которых один или несколько параметров не укладываются в нормы технических условий. Вторые — это приборы, которые в принципе могут выполнять свое функциональное назначение, но у которых один или несколько основных параметров в такой степени не соответствуют нормам, что практическое применение приборов в устройстве становится нецелесообразным.
В соответствии с этим различают катастрофические отказы, в результате которых прибор полностью теряет работоспособность, и деградационные отказы, в результате которых прибор может или условно потерять работоспособность, или сохранить ее, но параметры его при этом выйдут за пределы, оговоренные нормами технических условий. Если деградационные отказы происходят у изготовителя (например, во время технологических или квалификационных испытаний) или на входном контроле, они всегда будут замечены. Если же прибор установлен в аппаратуру и произойдет такого рода отказ, то вполне вероятно, что он никак себя не проявит и аппаратура останется работоспособной. В дальнейшем этот отказ может привести к катастрофическому или к условной потере работоспособности. Для транзисторов, как показывает практика, катастрофические отказы происходят чаще, чем деградационные.
1. Рассмотрим основные виды катастрофических отказов транзисторов. Прежде всего, это отказы, связанные с разрушением конструкции прибора. К таким отказам относятся: обрыв внешних ленточных выводов (как правило, речь идет об их отрыве от керамического основания), разрушение керамического основания, отделение этого основания от фланца, обрыв внутренних выводов (обычно в местах их присоединения к кристаллу или ножке), перегорание внутренних выводов, отделение кристалла от основания, разрушение кристалла, электрический или тепловой пробой электронно-дырочных переходов. В современных многоструктурных приборах может быть не один, а большое число внутренних эмиттерных и базовых выводов. При обрыве одного-двух из них отказа не произойдет. Если же произойдут обрыв или перегорание значительной доли этих выводов в приборе, работающем в аппаратуре, то вслед за этим, как правило, разовьются явления, которые приведут к его пробою. Пробой переходов как электрический, так и тепловой всегда сопровождается явлениями, приводящими к разрушению кристалла. Кристалл может локально проплавиться вследствие теплового пробоя или под действием электрического пробоя может разрушиться кристаллическая решетка в микроскопической по размерам области, которую впоследствии трудно обнаружить. В этом смысле разрушение кристалла при пробое отличается от тех разрушений, которые, например, вызываются механическими напряжениями и которые легко обнаруживаются. Отделение крышечки, герметизирующей прибор, не приводит ни к полной, ни к условной потере работоспособности транзистора, но его принято считать катастрофическим отказом, так как конструкция прибора при этом разрушается. В принципе такое отделение крышечки может стать причиной деградационного, а затем и катастрофического отказа прибора.
2. Рассмотрим основные виды деградационных отказов. Прежде всего, к таким отказам относят уход за границу норм технических условий статических параметров транзисторов, определяющих качество их переходов. Иначе говоря, речь идет об увеличении обратных токов и о снижении пробивных напряжений. Вполне реальными видами деградационных отказов транзисторов являются уход за нормы технических условий или значительное изменение статических параметров. Такие параметры, как емкости переходов, не могут претерпевать постепенных деградационных изменений. Что касается основных параметров: отдаваемой мощности, коэффициента усиления по мощности Kур, коэффициентов комбинационных частот Mz, и Ms и коэффициента полезного действия, — то они могут меняться, выходя за нормы технических условий.
Рассмотренные виды и возможные причины отказов транзисторов, безусловно, могут влиять на надежность работы этих приборов. Основной путь повышения надежности транзистора — это устранение всех рассмотренных причин отказов или уменьшение вероятности их возникновения.
Конкретным примером типового отказа можно привести пример исследований компании Semelab. Как и говорилось ранее обычные транзисторы при испытаниях в критических температурных условиях (квалификационные тесты при температурах от -50 до +150 градусов Цельсия) выходят из строя задолго до завершения комплекса тестирования. Испытания включают в себя 1500 циклов, и все отказы транзисторов произошли за первые 250. Рентгенограмма тестируемого транзистора показывает образование пустот и расслоение подложки на месте крепления кристалла. Серьезная опасность здесь заключается в том, что некоторые транзисторы могут пройти электрические тесты низкого уровня даже при таком расслоении, когда они уже повреждены. Элементы транзистора нагреваются по-разному, и из-за их различных температурных коэффициентов расширения (ТКР) смещаются относительно друг друга, при этом происходят разрывы контактов и расслоение подложки. Детальные исследования, доказывают, что обычный корпус транзистора никогда не обеспечит той надежности, которая требуется, например, в современных системах летательных аппаратов.
Соответственно, было принято решение изготовить структуру с совпадающими температурными характеристиками. Была отобрана силуминовая матрица – пластина на основе Al-Si с подложкой из нитрида алюминия AlN с одинаковыми температурными коэффициентами расширения. Для повышения надежности соединения проводников в нижней части использовано специальное защитное покрытие. Компаунд также подобран с учетом требуемого ТКР.
В результате надежность системы достигла требуемого уровня. Новый транзистор успешно прошел все 1500 циклов тестирования. Жесткий военный стандарт Military (MIL) требует, чтобы по завершении всех тестов общая площадь нарушенной структуры кристалла не превышала более 50% его площади. В нашем транзисторе ее доля оказалась менее 1%. На Рис.1 показаны рентгенограммы обычного и нового транзистора после проведения тестов.