Среди кислородных соединений благородных газов получены и охарактеризованы лишь производные ксенона
18.3.2.1. Степень окисления +8
Тетраоксид ксенона ХеО4 - светло-желтый взрывчатый газ. Его молекула имеет тетраэдрическое строение. ХеО4 при 00С распадается по реакции
3ХеО4 = 2ХеО3 + Хе↑ + 3О2↑.
При действии воды на ХеО4 образуется перксеноновая (гексаоксоксеноновая) кислота Н4ХеO6, более сильная, чем оксокислоты соседей ксенона по периоду - иода и теллура в высших степенях окисления H5IO6 и H6TeO6 (см. разд. 17.3.1.2 и 16.3.2.1): КаI(Н4ХеO6) = 10–2, КаII(Н4ХеО6) = 10–6, КаIII(H4XeO6) = 10–11, в то время как КаII(Н5IO6) = 4,9×10–9, КаII(Н6ТeO6) = 10–11. Простое объяснение этого факта - большее число в молекуле Н4ХеO6 атомов кислорода, не связанных с атомом водорода. Перксеноновая кислота в индивидуальном состоянии не выделена: она разлагается с выделением кислорода:
2Н3ХеO6¯ = 2НХеО4¯ + О2↑ + 2Н2О.
Тем не менее получены ее соли - перксенаты состава Na3HXeO6×Н2О, (ЩЭ)4ХеО6, (ЩЗЭ)2ХеО6, и др. Соли калия, рубидия и цезия растворимы в воде, в то время как производные лития, натрия, бария, а также серебра, цинка, свинца, лантана и тория не растворимы. Среди солей ЩЭ наименее устойчиво производное лития (сильное поляризующее действие катиона Li+ на анион ХеО64–). Структурный анализ показал, что перксенат-анионы в кристаллогидратах Na4XeО6×6Н2О, Na4XeO6×8Н2О и К4ХеО6×9Н2О имеют октаэдрическое строение, расстояние Хе-О равно 1,86 Å. При нагревании перксенаты разлагаются, например:
Li4XeО6 = 2Li2O + Хе↑ + 2О2↑.
Кислородные соединения XeVIII являются очень сильными окислителями, в частности, они переводят Мn2+ в MnO4–, a IO3–, в IО4–. Высокую окислительную активность ХеVIII подтверждают диаграммы Латимера:
рН = 0: Н4ХеO6 XeO3 Xe
рН = 14: HXeO63– HXeO4– Xe
Как и другие кислородсодержащие соединения, например, галогенов (см. разд. 17.3.1.2), в кислой среде производные XeVIII проявляют более сильные окислительные свойства, чем в щелочной.
Тетраоксид ксенона получают взаимодействием концентрированной серной кислоты и перксената бария (-50С):
Ва2ХеО6 + 2H2SO4 = 2BaSO4↓ + ХеО4↑ + 2Н2О.
Перксенаты (ЩЭ)3НХеО6 и (ЩЭ)4ХеО6 синтезируют действием озона на щелочные растворы ХеО3, гидролизом XeF6 в растворе щелочей или при диспропорционировании ХеО3 в щелочной среде:
3ХеО3 + 12NaOH + О3 = 3Na4XeО6 + 6Н2О.
2XeF6 + 16NaOH = Na4XeO6 + 12NaF + Хе↑ + O2↑ + 8Н2О,
2ХеО3 + 4NaOH = Na4XeО6 + Хе↑ + О2↑ + 2Н2О.
18 3.2.2. Степень окисления +6
Триоксид ксенона ХеО3 - бесцветные кристаллы, чрезвычайно взрывчаты (взрыв происходит уже при массе ХеО3 > 20 мг). Молекула ХеО3 - тригональная пирамида. Растворяется в воде с образованием ксеноновой кислоты Н2ХеО4, не выделенной в индивидуальном состоянии. В растворах происходит ее медленное диспропорционирование:
2НХеО4– + Н+ = Н3ХеО6– + Хе + О2.
Удалось выделить кислые ксенаты ЩЭ состава (ЩЭ)НХеО4 (где ЩЭ = Na - Cs) - бесцветные кристаллы, устойчивые до 150 – 1600С, взрывающиеся при детонации и медленно разлагающиеся при стоянии их водных растворов. Известны также средние ксенаты (ЩЭ)2ХеО4 и плохо растворимый Ва3ХеО6, разлагающийся выше 2500С.
Все кислородсодержащие соединения ксенона (VI) являются сильными окислителями, особенно в кислой среде, например:
5ХеО3 + 6MnSO4 + 9Н2О = 5Хе + 6HMnO4 + 6H2SO4.
ХеО3 + 6FeSO4 + 3MnSO4 = Хе + 3Fe2(SO4)3 + ЗН2О.
Тем не менее, как уже отмечалось в предыдущем разделе, триоксид ксенона можно окислить озоном до XeVIII, т.е. по отношению к еще более сильным окислителям он проявляет свойства восстановителя.
Триоксид ксенона получают гидролизом XeF4 и XeF6 при сильном охлаждении:
6XeF4 + 12Н2О = 2ХеО3 + 4Хе + 3О2 + 24HF,
XeF6 + 3Н2О = ХеО3 + 6НF.
Образовавшуюся HF отделяют в виде MgF2. вводя в раствор MgO. Полученный таким образом раствор ХеО3 упаривают при комнатной температуре, поскольку уже при 700С триоксид ксенона разлагается.
Ксенаты образуются при действии щелочей на водный раствор ХеО3. Выделяют их осторожным упариванием полученных растворов.
18.3.2.3. Степени окисления +4 и +2
В литературе есть данные, что при гидролизе XeF4, наряду с Н2ХеО4, образуется бесцветный кристаллический гидроксид ксенона (IV) Xe(OH)4, ТПЛ = 900С, ТКИП =1150С, способный взрываться.
Из соединений ксенона (II) известны нитрат Хе(NО3)2, разлагающийся при -700С, трифторацетат Xe(CF3COO)2, устойчивый до 200С (связь ксенона с двумя атомами кислорода трифторацетатных остатков линейна), и перхлорат Хе(СlО4)2.
18.3.3. Галогениды и оксогалогениды
«Предшественниками» всех соединений благородных газов являются их фториды. Других галогенидов для благородных газов не получено. Известен только бесцветный кристаллический дихлорид ксенона ХеСl2, разлагающийся при 800С. Его получили обработкой ССl4 дифторидом ксенона при УФ-облучении в условиях сильного охлаждения.
18 3.3.1. Фториды ксенона
Фториды ксенона при комнатной температуре - бесцветные кристаллические вещества, плавящиеся при относительно низкой температуре: ТПЛ XeF2 = 1400С, ТПЛ XeF4 = 1170С, ТПЛ XeF6 = 490С. Они легко летучи: ТКИП XeF2 = 3380С, ТКИП XeF6 = 750С; XeF4 сублимируется уже при комнатной температуре.
Выделено также молекулярное соединение XeF2×XeF4, плавящееся при 1070С, в котором имеется равное число молекул обоих фторидов того же строения, что и в индивидуальных соединениях.
Фториды ксенона - относительно устойчивы. Они могут долго храниться в никелевых, медных и тефлоновых сосудах, но диспропорционируют при нагревании. Например, уже при 3500С XeF2 превращается в ксенон и XeF4, который в свою очередь тоже может распадаться (на ксенон и гексафторид).
Дифторид ксенона растворим в неводных растворителях: BrF3×IF5, жидких HF и SO2. Так, в 1000 г IF5 растворяется 1538 г XeF2. При этом образуется молекулярное соединение XеF2×IF5.
В аммиаке XeF2 нерастворим, ацетонитрил CH3CN и тетрахлорид углерода ССl4 окисляются дифторидом ксенона при температуре кипения этих растворителей.
Дифторид ксенона хорошо растворяется в воде, но эти растворы неустойчивы:
2ХеF2 + 2Н2О = 2Хе + 4HF + О2.
Водные pacтвopы дифторида ксенона имеют высокую окислительную активность: Е0 (XeF2/Xe) в кислой среде (XeF2 + 2H+ + 2ē D ХеГ + 2HFВОДН) равен 2,64 В. Поэтому, в частности, в водных растворах удалось окислить ВrО3–-ион и синтезировать перброматы типа RbBrO4. В щелочных средах XeF2 окисляет NpV до NpVI и NpVII. В твердофазной системе XeF2 окисляет до степени окисления +4 Се, Рr, Тb с образованием тетрафторидов (P3Э)F4, а более широкий круг РЗЭ (Се, Рr, Nd, Dy, Tm) - с образованием фторидных комплексов P3Э(IV), например состава Cs3(P3Э)F7.
Дифторид ксенона является несколько менее активным фторирующим агентом (фторокислителем), чем молекулярный фтор, по-видимому, вследствие того, что суммарная затрата энергии на сублимацию XeF2 и разрыв связей Хе-F больше, чем энергетические затраты на атомизацию молекулярного фтора. Кроме того, XeF2 как окислитель «кинетически пассивен», что, однако, скорее достоинство, чем недостаток. Действительно, при обработке многих органических соединений молекулярным фтором реакция фторокисления идет настолько быстро, что фторирование перестает быть специфичным - происходит исчерпывающее замещение водорода на фтор. Напротив, «мягкое» воздействие с помощью XeF2 (особенно в присутствии катализаторов) позволяет провести реакцию фторирования таким образом, чтобы только некоторые связи в обрабатываемом соединении были разорваны или произошло замещение атомов водорода на фтор в определенных радикалах фторируемых молекул.
В лабораторных условиях значительно удобнее использовать твердый XeF2 как фторирующий агент или как фторокислитель, чем газообразный агрессивный F2. Дифторид ксенона можно дозировать взвешиванием, он хорошо хранится при обычной температуре. «Фторирующей силы» XeF2 при этом вполне достаточно для получения большинства неорганических и органических фторидов. Например, высшие фториды таких элементов-металлов, как Mn, W, Nb, Та, Sb, Sn, Ti, а также элементов-неметаллов S, Р, Те, Si образуются при взаимодействии XeF2 с соответствующими простыми веществами в интервале от -10 до +300С, а нагревание реакционной смеси до 500С приводит к взаимодействию XeF2 с оксидами и солями многих элементов-металлов.
Тетрафторид и гексафторид ксенона, как и дифторид, растворимы в безводном жидком фтороводороде. При этом, в отличие от XeF2 и XeF4, гексафторид диссоциирует в нем с образованием катиона [XeF5]+:
nXeF6 + (HF)n D [XeF5]+ + n[HF2]–
Фториды XeF4 и XeF6 активно гидролизуются (см. разд. 18.3.2). Вследствие выделения при гидролизе большого количества тепла при исследовании процесса добавляют воду к охлажденному жидким азотом фториду с последующим медленным нагреванием «замороженной» смеси.
Тетрафторид ксенона - более сильный окислитель, чем дифторид: он окисляет при обычной температуре аммиак, AsF3, спирт, ацетонитрил CH3CN, диметилсульфоксид (CH3)2SO. Mapганец (II) в кислой среде под действием XeF4 мгновенно превращается в марганец (VII), ртуть окисляется до дифторида, платина - до тетрафторида, a SF4 - до SF6. Тетрафторид XeF4, в отличие от XeF2, фторирует органические вещества в отсутствие катализатора. При соприкосновении с твердым XeF4 большинство органических соединений воспламеняется, а часть их взрывается, тогда как XeF2 существенно более инертен и безопасен.
Гексафторид ксенона еще более активен, чем XeF4. С гексафторидом нельзя работать в стеклянной или кварцевой аппаратуре, так как он реагирует ступенчато с диоксидом кремния, образуя взрывчатый триоксид ксенона:
2XeF6 + SiO2 = 2XeOF4 + SiF4, 2XeOF4 + SiO2 = 2XeO2F2 + SiF4,
2XeO2F2 + SiO2 = 2XeO3 + SiF4.
Фториды ксенона могут проявлять свойства кислот и оснований Льюиса. С фторидами ЩЭ (основаниями Льюиса) гексафторид образует соединения с комплексными анионами ЩЭ[ХеF7] и (ЩЭ)2[XeF8]. С сильными же кислотами Льюиса (пентафторидами мышьяка и сурьмы MF5) фториды ксенона взаимодействуют с переходом в комплексные катионы: [XeF]+[MF6]–, [XeF5]+[MF6]– ,[Xe2F3]+[MF6]– и др.
Строение фторидов ксенона вызывало интерес с момента их получения. В парах и в кристаллическом состоянии XeF2 - линейная молекула, a XeF4 - квадрат (обсуждение геометрии изоэлектронных IF2– и IF4– см. разд. 17.2.5). Гексафторид ксенона в парах мономерен, молекула XeF6 представляет собой искаженный октаэдр (возможные варианты структуры семивершинников типа АХ6Е приведены при описании строения IF7 и IF6– в разд. 17.2.5). Фторид XeF6 существует в четырех кристаллических модификациях, причем с понижением температуры образуются все более сложные структуры (I, II. III, IV), ни одна из которых не содержит дискретных молекул XeF6:
IV(кубическая) III(моноклинная) II(ромбическая) I(моноклинная)
Модификации I - III состоят из тетрамеров. В более сложной по строению модификации IV имеется два вида полимерных фрагментов, образованных за счет связывания квадратно-пирамидальных ионов ХеF5+ посредством бидентатных ионов F– (слабые связи Хе-F) в циклические тетрамеры (24 в элементарной ячейке) и гексамеры (8 в элементарной ячейке).
На первый взгляд трудно объяснить причину возникновения химической связи атомов фтора и атомов благородных газов, имеющих полностью завершенную 8-электронную оболочку. Проще всего было бы представить, что фтор, обладающий максимальной электроотрицательностью среди элементов ПС, все же способен разрушить замкнутую электронную оболочку, например, ксенона, и «отобрать» у Хе один электрон, т.е. образовать химическую связь ионной природы: Хе+–F–. Однако расчет показывает, что перенос электронов с ксенона на атомы фтора происходит в незначительной степени. Поэтому правильнее рассматривать фториды благородных газов как ковалентные соединения, существующие за счет трехцентровой связи. Так, систему связей XeF2 с позиций метода МО можно представить схемой рис. 18.2.
Из рисунка видно, что из трех взаимодействующих атомных орбиталей (двух 2р-орбиталей двух атомов фтора и одной 5р-орбитали атома Хе) образуются три молекулярные орбитали XeF2: связывающая, разрыхляющая и несвязывающая. Это приводит к тому, что четыре электрона, принадлежащие АО ксенона и двум АО атомов фтора, могут занять связывающую и несвязывающую молекулярные орбитали, оставив разрыхляющую орбиталь вакантной. Такое распределение электронов понижает энергию системы и делает XeF2 устойчивым. Вторая 5р-орбиталь Хе может образовать вторую трехцентровую связь (в XeF4), а третья 5р-орбиталь – третью трехцентровую связь (в XeF6).