Зарядка и разрядка слоя на электроде
Рассмотрим слой, который имеет во всех точках одинаковую толщину Н и характеризуется некоторыми эквивалентными значениями удельной объемной проводимости и относительной диэлектрической проницаемости .
Постоянная времени разрядки слоя
(2.9)
Время нарастания слоя на электроде
(2.10)
где Со - скорость роста слоя.
(2.11)
где v = -скорость аэрозольной частицы у поверхности слоя; В — подвижность частицы; ЕК — напряженность поля коронного разряда у осадительного электрода; N — средняя концентрация частиц у поверхности слоя; Vср - средний объем частицы.
Если сопротивление слоя велико, т.е. постоянная времени нарастания слоя » Tсл, то заряд не успевает уйти на электрод, и слой оказывается равномерно заряженным с плотностью объемного заряда р.
В этом случае напряженность поля внутри слоя будет равна.
(2.12)
И максимальная напряженность поля будет на поверхности электрода:
(2.13)
где = рН - плотность заряда слоя на единицу поверхности электрода.
Если же слой так медленно растет, что заряд слоя успевает стечь ( « Tсл,), то весь заряд находится на поверхности слоя, и процесс зарядки поверхности слоя будет аналогичен зарядке отдельной лежащей на электроде частицы. Тогда все определяется соотношением проводимости в поле коронного разряда и слоя частиц. На поверхности слоя накопится свободный заряд:
своб.уст
(2.14)
Обратная корона с порошкового слоя
Для диэлектрических и полупроводящих частиц по мере роста толщины слоя напряженность электрического поля в слое растет и может превысить внешнюю напряженность электрического поля несмотря на то, что
В этом случае в газовых включениях внутри слоя начинаются ионизационные процессы, которые приведут к пробою всего слоя. В результате пробоя образуется кратер, порошок и ионы из которого выбрасываются в межэлектродный промежуток. Помимо этого, после пробоя слоя вокруг кратера начинается также разряд по поверхности, который снимает поверхностный заряд. Все ионизационные процессы приводят к эмиссии ионов противоположного знака в межэлектродный промежуток. Вся совокупность этих процессов получила название обратного коронного разряда.
После возникновения обратной короны заряд на слое перестает расти. Внешний ток коронного разряда компенсируется тремя механизмами:
1) происходит нейтрализация зарядов с поверхности слоя;
2) отрицательные ионы выбрасываются в промежуток и рекомбинируют с положительными ионами прямой короны;
3) происходит стягивание силовых линий тока прямой короны к месту пробоя.
Время, через которое возникает обратная корона, tок определяется моментом, когда напряженность электрического поля в слое достигает пробивных значений (Е > Епроб), образуются кратеры в слое, и происходит существенный рост тока:
(2.15)
где Еуст = j/ - установившееся значение напряженности поля в слое.
Для случая, когда Еуст/Епро6 >= 3 + 5, формула (2.15) упрощается и приобретает вид:
(2.16)
Задача 2.9.
Определить время возникновения обратной короны при следующих параметрах слоя и условиях его зарядки: относительная диэлектрическая проницаемость = 1,5; плотность тока коронного разряда j = 10~4 А/м2; пробивная напряженность Епроб = 40 кВ/см; напряженность поля коронного разряда ЕК =2кB/cм.
Решение.
Влияние слоя на вольт-амперную характеристику коронного разряда
При наличии на осадительном электроде слоя, через который протекает ток, плотность которого j = на слое возникнет падение напряжения U.
Это приведет к тому, что к газовому промежутку уже будет приложено не полное напряжение источника, а напряжение U1 = U - U. И чтобы
тот же ток короны I был в системе коронирующих электродов, к ним надо приложить напряжение, большее на величину U, т.е. нанесение или образование слоя на электроде сдвигает вольтамперную характеристику (ВАХ) короны в сторону больших напряжений источника, т.е. имеет место частичное запирание коронного разряда.
Зная падение напряжения на слое U, можно достаточно просто определить проводимость слоя толщиной Н:
=jH/ U (2.17)
При появлении обратной короны происходит излом вольтамперной характеристики за счет того, что частичные разряды в слое снижают удельное сопротивление слоя pv1. Помимо этого, обратная корона снимает запирание прямой короны, и ее ток растет. В этом случае при определении проводимости слоя падение напряжения на слое U берут в точке излома ВАХ. По ней же может быть определена и пробивная напряженность слоя:
(2.18)
Задача 2.10.
Система коронирующих электродов: «ряд проводов над плоскостью». Расстояние между проводами d = 15 см; межэлектродное расстояние Hэл = 15 см. Плотность тока коронного разряда по плоскости распределена равномерно. Толщина слоя на плоскости Нсл = 1 мм.
Измерения вольтамперных характеристик со слоем и без него показали, что в момент возникновения обратной короны ток на единицу длины провода составлял I = 0,13 мА/м, а падение напряжения на слое U = 3 кВ.
Определить проводимость слоя и его пробивную напряженность. Решение.
1) Пробивная напряженность слоя = 30 кВ/см.
2) Плотность тока короны на плоскости, j = I/d=0.13*10 /0.15=0.87*10 A/м .
3) Проводимость слоя yvl =