Гелий-неоновый атомный лазер
Активной средой гелий-неонового атомного лазера является смесь двух газов — гелия (Не) и неона (Ne), а лазерными уровнями — энергетические уровни возбужденных атомов неона. Для создания инверсии населенностей используют электрическую накачку путем создания тлеющего разряда в газоразрядной трубке. Схема лазера с возбуждением постоянным током показана на рис. 11.6. Диаграмма энергетических уровней гелия и неона приведена на рис. 11.7. Основные состояния атомов обозначены римской цифрой I.
В соответствии с распределением Больцмана при (оптический диапазон) уровни возбуждения атомов гелия и неона свободны. При разряде вследствие неупругих соударений со свободными электронами происходит возбуждение атомов гелия, которые могут переходить на метастабильные уровни II и III. Энергия возбужденных атомов гелия передается далее атомам неона. Энергетические уровни гелия II и III очень близки к уровням 2s и 3s неона. Поэтому при неупругих соударениях возбужденных атомов гелия с невозбужденными атомами неона происходит эффективная передача избыточной энергии атомов гелия атомам неона. Атомы неона переходят в возбужденное состояние 2s или 3s, а атомы гелия — в основное состояние I.
Кроме того, атомы неона переходят на уровни 2s или 3s вследствие соударений с быстрыми электронами. Так образуются два «канала», по которым заселяются верхние уровни атомов неона, в то время как нижние уровни атомов неона заселяются только при соударении невозбужденных атомов с электронами. Подбирая соотношение концентраций атомов гелия и неона и значение тока разряда, можно добиться преобладания скорости заселения верхних уровней неона над скоростью заселения нижних уровней, то есть добиться инверсии населенностей уровней.
Атомы гелия являются посредниками при передаче энергии от быстрых электронов к атомам неона. Поэтому гелий можно назвать вспомогательным, а неон — основным, или рабочим, газом. Обычно диапазон отношения концентрации гелия и неона составляет от 5 до 15. Эффективность передачи энергии оказывается высокой также потому, что время жизни гелия на уровнях II и III продолжительное (10-3с). Эти уровни являются метастабильными: для них запрещены переходы в основное состояние.
Рабочий переход соответствует длине волны излучения 3,39 мкм. Это наиболее эффективный переход, усиление на нем достигает 20 дБ/м. Вынужденное излучение осуществляется на переходе с длиной волны 1,1525 мкм, а на — с длиной волны 0,6328 мкм. Так как инверсия для всех трех переходов достигается примерно в одинаковых условиях разряда, то для выделения излучения одной длины волны нужно применять специальные меры, например вводить в резонатор селективный поглотитель.
Частицы уровня 2р возвращаются на основной уровень в два этапа. Сначала происходит спонтанный переход , а затем с метастабильного уровня 1s частицы удаляются из-за диффузии на стенки газоразрядной трубки, которым они отдают избыток своей энергии. Чтобы облегчить диффузию, надо уменьшить диаметр газоразрядной трубки. Обычно диаметр трубки не превышает 10 мм.
Выходная мощность лазера зависит от тока разряда, общего давления в газовой смеси, соотношения парциальных давлений гелия и неона, диаметра разрядной трубки. При малом токе (но больше пускового) мощность генерации возрастает с ростом тока, так как увеличивается количество электронов в плазме газового разряда. При этом убыстряются процессы заселения верхних энергетических уровней гелия и неона, что приводит к увеличению разности населенностей рабочих уровней. Однако после достижения определенной концентрации электронов в плазме существенную роль начинает играть процесс ступенчатого возбуждения нижних рабочих уровней неона 2р и Зр с метастабильных уровней 1s. Это приводит к снижению инверсии населенности рабочих уровней и, следовательно, к уменьшению мощности генерации.
С ростом общего давления увеличиваются концентрации атомов гелия и неона, растут населенность возбужденных уровней и выходная мощность. Однако при высоком давлении, когда концентрация частиц в разряде становится большой, уменьшается длина свободного пробега электрона и соответственно уменьшается энергия, приобретаемая электроном на этом пути в электрическом поле, что приводит к уменьшению энергии, передаваемой атомам гелия, и к снижению мощности излучения. Оптимальное давление составляет примерно 100 Па.
Ионный лазер
В ионных лазерах применяют ионы инертных газов, а также ионизированные пары различных химических элементов. В этих лазерах используются энергетические переходы между уровнями возбужденных ионов. Для получения большой мощности необходима высокая концентрация ионов в разряде. Поэтому применяется дуговой разряд с высокой плотностью тока.
Наиболее распространенным из ионных лазеров является аргоновый лазер, работающий на квантовых переходах между возбужденными состояниями иона в видимой части спектра ( = 0,45-0,51 мкм). Для повышения плотности разряда в ионных лазерах применяют продольное магнитное поле, которое удерживает заряженные частицы вблизи оси трубки. Мощность излучения ионных лазеров выше, чем лазеров, работающих на атомных переходах. В непрерывном режиме выходная мощность составляет десятки ватт, а в импульсном — десятки киловатт. Однако КПД ионных лазеров очень низкий (0,01-0,3 %).
Молекулярный лазер
Недостатком атомных и ионных лазеров является их низкий КПД. Это объясняется, в частности, тем, что для перевода одного атома рабочего газа на верхний энергетический уровень необходима энергия около 20 эВ, а в получаемом при генерации излучении энергия кванта составляет около 2 эВ. То есть эффективность преобразования энергии электрона, возбудившего атом рабочего или буферного газа, составляет всего 0,1. Кроме того, лишь небольшая доля электронов, участвующих в газовом разряде, расходует свою энергию на создание инверсии. В молекулярных лазерах соотношение между энергией излученного кванта и энергией возбуждения существенно выше (порядка 0,5).
Наиболее распространенным молекулярным лазером является лазер на смеси углекислого газа СО2 с азотом N2, в которую добавлен гелий. Упрощенная схема энергетических уровней углекислого газа и азота приведена на рис. 11.8. В газоразрядной плазме при неупругих столкновениях с электронами возбуждаются молекулы СО2, при этом происходит заселение уровней и 4. Кроме того, происходит передача энергии от молекул азота к молекулам СО2. Это.также приводит к возбуждению уровня 4. Эффективность возбуждения велика, так как уровень расположен по энергии близко к уровню 4. Эти уровни имеют продолжительное время жизни. Излучательными переходами являются переходы и , создающие вынужденное излучение на длинах волн 10,6 и 9,6 мкм. Наиболее интенсивным является переход с длиной волны 10,6 мкм, при этом генерация на других переходах специально подавляется.
Газодинамический лазер
В 1966 году В. К. Конюховым и А. М. Прохоровым был предложен, а в 1970 году создан инфракрасный лазер на углекислом газе в смеси с азотом с охлаждением в сверхзвуковом сопле, получивший название газодинамического лазера. Инверсия населенностей уровней в газодинамическом лазере происходит при быстром (сверхзвуковом) расширении предварительно нагретой газовой смеси.
Схема газодинамического лазера приведена на рис. 11.9. При сжигании топлива в камере сгорания получается углекислый газ, который здесь же смешивается в определенной пропорции с азотом и водяным паром, образуя высокотемпературную плазму. Газовая смесь под давлением 1700 Па со сверхзвуковой скоростью проходит через сопло и за ним расширяется и охлаждается. Вследствие относительно большого времени жизни верхнего уровня молекулы СО2 и малого времени прохождения газа через сопло населенность возбужденного при нагреве газа верхнего уровня сохраняется за время движения молекул от камеры сгорания до оптического резонатора. Значительно меньшее время жизни частицы на нижнем уровне приводит к тому, что населенность нижнего уровня оказывается много меньше населенности верхнего уровня уже на расстоянии нескольких сантиметров от сопла. Таким способом создается инверсия населенностей уровней, и газ поступает в резонатор, состоящий из двух зеркал, параллельных потоку.
Полупроводниковые лазеры
Для того чтобы заставить полупроводник усиливать падающий на него свет, необходимо, как и в любом другом лазере, создать в нем инверсию населенностей, с тем чтобы концентрация электронов в области, примыкающей ко дну зоны проводимости, была выше концентрации электронов в области, примыкающей к потолку валентной зоны. На рис. 11.10 показана энергетическая диаграмма идеального состояния полупроводника, когда узкая полоса разрешенных энергетических уровней вблизи дна зоны проводимости заполнена электронами, а узкая полоса энергетических уровней у потолка валентной зоны не содержит электронов, то есть заполнена дырками. Если в такой идеальный полупроводник попадают фотоны с энергией hv, большей ширины запрещенной зоны , но меньшей , то возникают вынужденные переходы электронов из зоны проводимости в валентную зону с испусканием новых фотонов, точно совпадающих по своим свойствам с первичными фотонами. Если полупроводник поместить между отражающими зеркалами, заставляющими родившиеся фотоны снова и снова проходить через кристалл, создавая каждый раз новые лавины фотонов, то можно осуществить генерацию монохроматического света.
В полупроводниках возможны следующие методы получения инверсии населенностей: инжекция носителей заряда через р-n-переход (инжекционные лазеры), электронная накачка и оптическая накачка. Наибольшее распространение получил метод инжекции носителей заряда.
Инжекционный лазер
В инжекционных лазерах используется р-n-переход, образованный вырожденными полупроводниками с разным типом электропроводности. Если к такому p-n-лереходу приложить прямое напряжение, то уровни Ферми EFn и ЕFp разойдутся на величину приложенного напряжения (рис. 11.11).При этом в некоторой области перехода с шириной одновременно будет велико число электронов в полосе и дырок (свободных уровней) в энергетической полосе , то есть распределение носителей заряда оказывается подобным распределению, показанному на рис. 11.10,что свидетельствует об инверсии населенностей. В этой области происходит наиболее интенсивная рекомбинация электронов и дырок, сопровождающаяся спонтанным излучением с энергией, большей ширины запрещенной зоны. Чем больше внешнее напряжение, тем больше концентрация электронов и дырок в области , тем сильнее выражена инверсия населенностей. При некотором пороговом напряжении (пороговом токе), когда вынужденное излучение, вызванное спонтанным излучением, достаточно для компенсации потерь света в материале полупроводника и в отражающих поверхностях, наступает генерация. Таким образом, р-n-переход при малых токах является источником спонтанного излучения, что имеет место в светоизлучающих диодах, а при токах больше порогового — источником когерентного излучения, что имеет место в лазерах.
Первые инжекционные лазеры были созданы на арсениде галлия. Типичный лазер изготовляется в форме прямоугольного параллелепипеда с длинами сторон от долей миллиметра до одного миллиметра (рис. 11.12). Две грани полупроводника перпендикулярны плоскости р-n-перехода и образуют после шлифовки зеркала резонатора. Две другие грани наклонены к плоскости р-n-перехода, чтобы не создать в этом направлении условий для самовозбуждения. Излучение выходит из узкой области р-n-перехода перпендикулярно параллельным граням полупроводника.
Пороговый ток лазера в значительной степени зависит от температуры и концентрации примесей. Понижение температуры облегчает вырождение полупроводников и, следовательно, уменьшает пороговый ток. Лазеры на арсениде галлия работают при температуре жидкого гелия 4,2 К или жидкого азота 77 К. В настоящее время разработаны инжекционные лазеры, работающие в импульсном режиме при комнатной температуре. Если при температуре жидкого гелия пороговый ток составляет 100 А/см2, то при комнатной температуре он достигает 105 А/см2.
Инжекционные лазеры, обладая рядом недостатков (большая расходимость луча, широкая линия излучения), имеют ряд важных преимуществ перед другими лазерами. Они обладают высоким КПД, малыми размерами, простотой конструкции, большой мощностью, снимаемой с 1 см2 излучающей поверхности, возможностью работы в импульсном режиме при комнатной температуре. Преимущества полупроводниковых лазеров заключаются также в простоте модуляции излучения, осуществляемой изменением тока накачки. Все эти достоинства открывают широкие возможности практического применения таких лазеров.
Гетеролазер
Энергетические диаграммы гетеропереходов (см. главу 1) характеризуются различными потенциальными барьерами для встречных потоков электронов и дырок, что вызывает одностороннюю инжекцию носителей заряда из широкозонного эмиттера в узкозонную базу. При этом концентрация инжектированных в базу носителей заряда может на несколько порядков превышать свое равновесное значение в эмиттерной области.
Лазеры на основе гетеропереходов (гетеролазеры) были предложены Ж. И. Алферовым. В гетеролазере нет необходимости легировать полупроводник до вырождения, так как условие инверсии населенностей энергетических уровней выполняется за счет разницы в ширине запрещенных зон. Структура гетеролазера представлена на рис. 11.13.Она состоит из области GaAs n-типа, узкой области GaAs р-типа и области тройного соединения AlGaAs р-типа. Активной является средняя область, в которой создается инверсия населенностей. На границе средней и правой областей образуется потенциальный барьер, который ограничивает длину свободного пробега электронов, инжектированных из левой области, и тем самым повышает эффективность образования вынужденного излучения. Кроме того, из-за различия в коэффициентах преломления в средней и правой областях на их границе наблюдается внутреннее отражение света {волноводный эффект), что уменьшает поглощение света в правой неактивной области.
В нашей стране были разработаны также гетеролазеры с полным внутренним отражением света с обеих сторон от активного слоя, названные лазерами с двойной гетероструктурой,или ДГС-лазерами. В этих лазерах удалось существенно снизить плотность порогового тока и получить большой КПД, что позволило при комнатной температуре осуществить режим непрерывного излучения, который ранее был возможен только при температуре жидкого азота. В ДГС-лазерах на основе соединений GaAs—GaAlAs при комнатной температуре плотность порогового тока составляет менее 1 кА/см2.
Отличительными особенностями гетеролазеров являются высокий КПД, удобство возбуждения, малые габариты. Путем изменения концентрации примесного алюминия от 0 до 30 % в AlxGa1-xAs можно изготовлять лазеры с различной длиной волны излучения в пределах от 0,68 до 0,9 мкм.
За разработку полупроводниковых приборов на основе гетеропереходов Ж. И. Алферов в 2001 году был удостоен Нобелевской премии.
Литература
1. Аваев Н. А., Наумов Ю. Е., Фролкин В, Т. Основы микроэлектроники. М.: Радио и связь, 1991.
2. Агаханян Т. М. Интегральные микросхемы. М.: Энергоатомиздат, 1983.
3. АлексенкоА. Г. Основы микросхемотехники. М.: Советское радио, 1977.
4. Андрушко А. М., Федоров Н. Д. Электронные приборы СВЧ и квантовые приборы. М.: Радио и связь, 1981.
5. Батушев В. А. Электронные приборы. М.: Высшая школа, 1980.
6. Валиев К. А,, Кармазинский А. Н., Королев М. А. Цифровые интегральные схемы на МДП ранзисторах. М.Советское радио, 1971.
7. Васильева А. С, Завалина И. П., Калинер Р. С, Катушки индуктивности аппаратуры связи. М.: Связь, 1973.
8. Викулгш И. М., Стафеев В. И, Физика полупроводниковых приборов. М.: Радио и связь, 1990.
9. Волгов В. А. Детали и узлы радиоэлектронной аппаратуры. М.: Энергия, 1975.
10. Гусев В. Г., Гусев Ю. М. Электроника. М.: Высшая школа, 1991.
11. Епифанов Г. И. Физика твердого тела. М.: Высшая школа, 1977.
12. Ефимов И. Е., Козырь И. Я. Основы микроэлектроники. М: Высшая школа, 1983.
13. Ефимов И. Е., Козырь И. Я., Горбунов Ю. И. Микроэлектроника. Проектирование, виды микросхем, ункциональная электроника. М.: Высшая школа, 1987.
14. Ефимов И. Е. Козырь И. Я., Горбунов Ю. И. Микроэлектроника. Физические и технологические сновы, надежность. М.; Высшая школа, 1986.
15. Коледов Л. А. Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок. М.: Радио связь, 1989.
16. Конденсаторы: Справочник. М.: Радио и связь, 1993.
17. Мозель К. Б. Трансформаторы электропитания. М.: Энергоиздат, 1982.
18. Маллер Р., Кейлинс Т. Элементы интегральных схем. М.: Мир, 1989.
19. Мишин Д. Д. Магнитные материалы. М.: Высшая школа, 1981.
20. Парфенов О. Д. Технология микросхем. М.; Высшая школа, 1986.
21. Пасынков В. В., Чиркин Л. К. Полупроводниковые приборы. СПб.: Лань, 2002.
22. Пасынков В. В., Сорокин В. С. Материалы электронной техники. СПб.: Лань, 2001.
23. Пауль Р. Транзисторы. М.: Советское радио, 1973.
24. Радиодетали, радиокомпоненты и их расчет / Под ред. А. В. Коваля. — М.: Советское радио, 1977.
25. Резисторы: Справочник. М.: Радио и связь, 1991.
26. Росадо Л. Физическая электроника и микроэлектроника. М.: Высшая школа, 1991.
27. Рычина Т. А. Электрорадиоэлементы. М.: Советское радио, 1976.
28. Рычина Т. А,, Зеленский А. Б. Устройства функциональной электроники и электрорадиоэлементы. М.: Радио и связь, 1989.
29. Сидоров И. Н., Мукосеев В. В., Христинин А. А. Малогабаритные трансформаторы и дроссели: Справочник. М.: Радио и связь, 1985.
30. Соловьев Г. Н. и др. Схемотехника ЭВМ. М.: Высшая школа, 1995.
31. Соломатин Н. М. Логические элементы ЭВМ. М.: Высшая школа, 1987.
32. Степаненко И. П. Основы микроэлектроники. М.: Советское радио, 1980.
33. Тареев Б. М. Физика диэлектрических материалов. М.: Энергоатомиздат, 1982.
34. Тилл У., Лаксон Дж. Интегральные схемы: материалы, приборы, изготовление.М :Мир, 1985.
35. Тугое Н.М., Глебов Б. А., ЧарыковН.А. Полупроводниковые приборы. М.: Энергоатомиздат, 1990.
36. Шалимова К. В. Физика полупроводников. М.: Энергоатомиздат, 1985.
37. Электронные приборы: Учебник для вузов / Под. ред. Г. Г. Шишкина. М.: Энергоатомиздат, 1989.
38. Электронные, квантовые приборы и микроэлектроника: Учебное пособие длявузов / Под ред. Н. Д. едорова. М.: Радио и связь, 1998.
(*) ,при Т=300ºК UT=0,026B
(**) при t=1 - подвижность электрического поля. Скорость в поле единичной напряженности