Концентрация электронов в зоне и на уровнях
СТАТИСТИКА ЭЛЕКТРОНОВ
В ПОЛУПРОВОДНИКАХ
Для расчета концентрации электронов в кристалле надо учитывать их квантово-механическую природу и то, что в одном состоянии может находиться только два электрона.
Фазовое пространство импульсов или волновых векторов
(энергий) электронов квантовано. Объем одной ячейки в
-пространстве равен h3. Число электронов, приходящихся на интервал Е, Е + dE, содержащий dZ квантовых ячеек или состояний будет:
, (8.1)
где – плотность квантовых состояний – число состояний, приходящихся на единичный интервал энергий.
Тогда в интервале число электронов:
(8.2)
Концентрация электронов в зоне и на уровнях
В условиях термодинамического равновесия для частиц с полуцелым спином выполняется распределение Ферми-Дирака.
, (8.3)
где EF – электрохимический потенциал или энергия Ферми, т.е. работа, которую необходимо затратить для изменения числа частиц в системе на единицу (V = Const, T = Const).
Для EF величина f = 1/2 при любых условиях (рис. 8.1), т.е. EF – энергия электрона, вероятность иметь которую равна 1/2.
Рис. 8.1. Функция распределения электронов при разных температурах
При E – EF >> kT (Распределение Больцмана).
Это невырожденный (идеальный) газ, а полупроводник невырожден.
Плотность состояний N(E)
Найдем плотность состояний в полупроводнике со сферической зоной с минимумом в центре зоны Бриллюэна (рис. 8.2). Энергия электронов у дна зоны проводимости (в p-пространстве):
(8.4)
В шаровом слое, соответствующем интервалу Е и E + dE число состояний определяется его объемом dV и размером элементарной ячейки h3; в каждом состоянии могут находиться 2 электрона:
(8.5)
Рис. 8.2. Изоэнергетические поверхности в р-пространстве
Так как из (8.4) ,
, (8.6)
то
(8.7)
Наибольшая плотность состояний находится у дна Ес (рис. 8.3).
Для дырок
(8.8)
Рис. 8.3. Зависимость плотности состояний электронов от их энергии
При эллипсоидальной форме зоны с минимумом в стороне от центра зоны Бриллюэна (М эквивалентных минимумов) плотность состояний N(E) увеличится в M раз. Учтем сложную форму поверхности энергии.
Эллипсоид:
Полуоси:
Эффективная масса плотности состояний позволяет пользоваться формулой для N(E) такого же вида, как и для сферической формы энергии.
Объем эллипсоида
(8.9)
(8.10)
Для учета всех минимумов:
(8.11)
Например, Si имеет 6 минимумов, m1 = m2
Так как m1 = 0,19mo, m3 = 0,92mo, то эффективная масса плотности состояний
Для дырок (легких и тяжелых):
Итак, концентрация электронов в зоне проводимости:
(8.12)
Концентрация электронов и дырок в зонах
Так как и вдали от дна зоны N(E) мало, то при интегрировании от дна до потолка зоны проводимости верхний предел интегрирования можно брать равным ¥. Если вести отсчет энергии от дна зоны проводимости, то нижний предел можно считать нулевым.
(8.13)
Введем безразмерные величины:
;
,
где e – приведенная энергия электрона;
h – приведенный уровень Ферми, т.е. на сколько kT он отстоит от дна зоны проводимости.
Тогда:
, (8.14)
где – эффективная плотность состояний в зоне проводимости (максимальная плотность состояний).
(8.15)
Это формула для расчета плотности состояний для любого полупроводника с известной массой плотности состояний и при известной температуре Т.
Интеграл Ферми с индексом 1/2:
(8.16)
Приближенные выражения интеграла Ферми в зависимости от величины h:
(8.17)
Рассмотрим все три случая.
1. , т.е. EF ниже, чем на kT от дна Ес.
, (8.18)
т.е. электроны подчиняются статистике Больцмана, а не Ферми-Дирака.
Это невырожденный полупроводник, электроны ведут себя как идеальный газ. С ростом Т растет и n по экспоненте.
2. , т.е. EF лежит в глубине Ес на 5kT .
Учтем (8.15)
(8.19)
Таким образом, концентрация n ¹ f(T) не зависит от Т, т.е. полупроводник является вырожденным. Поведение электронов аналогично поведению в металлах, т.е. концентрация постоянна и температура не влияет на нее.
3. – промежуточный случай.
В большинстве реальных случаев в полупроводниках реализуется невырожденное состояние (p-n переход, датчики, другие приборы).
Аналогично все для p-типа.