Измерение толщины напыленных слоев

1. Взять «свидетели», которые использовались при напылении рабочей стороны и обратной стороны проверяемой партии, и в центральной части их кисточкой нанести на поверхность слой краски размером ориентировочно 10*10 мм. Разрешается вместо «свидетеля» использовать отбракованную подложку из этой же партии. Свидетель и контрольные подложки брать только за торцы. Краска НЦ-11 ГОСТ 9198-83. Кисть художественная №6-10 ОСТ 17888-81;

2. Положить «свидетеля» в пару для контрольных подложек так чтобы окрашенное пятно не касалось корпуса тары;

3. Из отбракованных подложек взять 3 подложки по одной из каждого ряда подложкодержателя в качестве контрольных и установить их в тару для контрольных подложек. Если отбракованных подложек не имеется, то в качестве контрольных взять не менее трех годных подложек из той же партии;

4. Передать тару с контрольными подложками и «свидетелями» на операцию травления проводящего слоя по ши.25200.00048. До передачи на операцию травления нанесенная краска на «свидетели» должна высыхать не менее 10 минут;

5. Получить контрольные подложки и «свидетели» со стравленными проводящими слоями;

6. Взять «свидетель», который использовался при напылении рабочей стороны из тары и положить его на плоскость стола окрашенным слоем вверх и салфеткой смоченной в ацетоне, стереть слои краски. Ацетон ГОСТ 2603-79;

7. Включить микроскоп согласно инструкции по эксплуатации. Микроскоп МИИ-4 ГОСТ 9847-79;

8. Положить «свидетель» на предметный столик микроскопа стороной с пленочными слоями вниз так, чтобы край проводящего слоя был виден в центре поля зрения микроскопа и располагался там горизонтально;

9. Вывести в центре поля зрения микроскопа интерференционные полосы так, чтобы они располагались вертикально. При этом на границе проводящего слоя полосы сдвинутся в сторону, образуя ступеньку;

10. Пользуясь визирной линией микроскопа и микрометрическим винтом измерить величину сдвига «d» интерференционных полос на границе проводящего слоя, приняв за единицу измерения расстояние между соседними интерференционными полосами «в» т.е. измерить d/в;

11. По результатам измерения рассчитать толщину проводящего слоя Д в мкм. Если толщина проводящего слоя Д в мкм выходит за пределы 0.027 < Д < 0.03 , то это брак.

20. Выключить напряжение на мишени и цепь питания магнетрона для меди;

21. Записать время и режимы напыления меди в рабочий журнал;

22. Установить переключатель питания магнетрона в положение для напыления никеля;

23. Установить в камере с помощью натекателя рабочее давление аргона, указанное в таблице 5 для напыления никеля, контролируя по показаниям вакуумметра;

24. Выставить режимы напыления никеля, указанные в таблице 5 для напыления никеля, и тренировать мишень при закрытой рабочей заслонке в течение (3+-1) минут;

25. Открыть в рабочую заслонку, произвести напыление никеля в течение 8-15 минут, после чего закрыть заслонку. Во время напыления поддерживать стабильность рабочих режимов напыления и рабочее давление, контролируя их по приборам. Время напыления никеля уточняется технологом по результатам контролируемого процесса;

26. Выключить напряжение в цепи питания мишени для никеля и выключить блок питания магнетронов;

27. Записать время и режим напыления в рабочий журнал;

28. Отключить подачу аргона в камеру, открыть дросселирующую заслонку;

29. Закрыть подачу холодной воды на магнетроны и камеру через 5-10 мин. После выключения блока питания магнетронов;

30. Отключить подачу азота в ловушку, выключить вакуумметр и закрыть шибер паромасляного насоса;

31. Разгерметизировать камеру;

32. Выключить привод вращения барабана;

33. Выдвинуть из камеры барабан с подложками и развернуть его на 90о;

34. Выгрузить подложку из барабана в тару отдельно по рядам или в соответствии с сортировкой резистивного слоя. Подложки брать за торцы в напальчниках;

35. Заполнить сопроводительный лист и партию с сопроводительным листом передать на операцию «Проверка тонкопленочных структур». ДО операция «Нанесение фоторезиста» подложки с напыленными слоями хранить не более трех суток в таре, помещенной в эксикатор с силикагелем. Допускается хранение подложек в шкафу типа ШЗА-2М;

По окончанию работы создать вакуум в камере и выключить установку в соответствии с инструкцией по эксплуатации.

Вывод

В ходе лабораторной работы мы изучили технологию процесса нанесения металлических пленок методом термического испарения в вакууме и экспериментально исследовали зависимости удельного сопротивления тонких пленок от толщины.

Отчет подготовил студент группы РК-093 Баранов В.И.

Наши рекомендации